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光譜阻抗測量知識

文章來源：展業達鴻 | 作者：admin | 發表時間：2021-12-27

電池的內阻與頻率密切相關。它隨著頻率的增加而減少，并具有盲點。因此，人們談到復阻抗，并用數量和相位或實部和虛部來表示它。
純歐姆行為僅存在于1 kHz的頻率下，具體取決于技術和電容。該交流（AC）電阻通常在數據手冊中指定。對于測量，印有固定頻率的小交流電并測量產生的交流電壓;測量時間約為1秒。
由于在運行期間很少發生如此快速的負載變化，因此直流（DC）內阻對于評估工作行為更有意義。為此，在較低頻率下測量內部電阻，通常為<1Hz（或在時域中作為階躍響應）。兩種測量（交流和直流電阻）都只需幾秒鐘。
頻譜阻抗測量（也稱為電阻抗譜EIS）提供了對電池行為的最全面的見解。在這里，在許多頻率（e.B 0.1Hz至1kHz）下測量（復數）內阻，這可以將測量過程延長到幾分鐘。電化學行為可以從頻率響應或空間曲線中讀取。例如，如果位置曲線與典型航向有很大偏差，則可以推斷出損壞。

下表顯示了最常用度量值的概述：

量	電池特性	發展	生產	保養	服務
電壓	荷電狀態（SoC）（鋰離子、鉛）	?	?	?	?
交流電阻	老化（SoH）	?	?	?	?
直流電阻	操作行為	?	?	?
空間曲線（阻抗譜）	操作行為、損壞、模型參數	?	(?)	(?)
應用		表征	選擇	評估與交流	診斷
比較值		將確定	現有單元	相鄰單元格	數據手冊或初始測量

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